其他

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    清洗液

    半導體製程不同階段需要不同的清洗製程。添鴻科技提供不同製程應用的清洗液。
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    銀蝕刻液

    提供wet bench 與spin製程機台使用的磷酸與硝酸系列銀蝕刻液。
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    鎳釩蝕刻液

    提供wet bench 與spin製程使用的硝酸系列鎳釩蝕刻液，也可以應用在NiV/Cu蝕刻製程。
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    矽蝕刻液

    提供氫氧化鉀系列矽蝕刻液。其非等向性特性應用於MEMS製程與TSV reveal製程。
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    鈦鎢蝕刻液

    提供高品質的鈦鎢 (TiW) 蝕刻液，應用於金凸塊封裝製程。